控制氣體於固定值
節省成本的方案
氣體流量的控制是氣體動力中發展迅速的領域。它雖然是看似微小的改變卻能產生極大的幫助。這個改變可藉由靜態或動態裝置來完成。靜態裝置如管孔或粗糙零件不需要外加動力，在定義上是屬於靜態。動態裝置則需要驅動器也就是需要動力(例如電磁閥及驅動器)。驅動方式可能是預先安排的(開路式控制)或是依據感應器監測流量的狀況(閉路式控制)而定。
用於SFC也可產生平層流。
動態或靜態氣體流量控制？
在設計階段，當需要某特定氣體流量其誤差在1%以內時，許多工程師都會想到 MFC(大流量控制器)。當整體系統進行測試調整時，MFC大都設為固定值，使氣體供應的特性(介質、入口壓力、溫度及其他)維持固定。
MFC雖然可用，但若和SFC(靜態流量控制器)相比，SFC的價格便宜的多，並且MFC每年還需要校準。依據不同應用，您的成本與標準工業級流量控制器相比將可能節省達70%。
什麼是SFC？
靜態流量控制器(SFC)是用於精準控制氣體流量高達40 slpm的裝置。靜態流量控制器在設計及校準後可將特定氣體控制在特定流量。SFC可設定在某個特定靜態條件下運作，甚至包括真空條件或是流量精準度控制在+/- 1%。此可靠的機械式裝置可控制流量於固定值且變動量約為+/- 0.1%。SFC可規劃配置想要的接頭例如1/4"端面密封或1.125"IGS C型密封接頭。SFC均為100%校準後測試通過，且每個零件均通過品質認證，其流速資料符合NIST主要標準(近似MFC！)，通過He滲漏測試且不需再校準。
Designed for high tech applications
The design is mechanical: simple and tamper proof. All static flow controllers have an inlet port, an outlet port and a porous metal element inside. The SFC has a compact design, which saves space in critical designs . It is built for UHP applications; made from 316L Stainless steel, with a 10 Ra surface finish manufactured in an ISO class 5 cleanroom which makes it extremely suitable for semiconductor processing. You may need a static laminair flow during semiconductor processes such as etching, chemical vapor deposition, epitaxial deposition, ion implant, atomic layer deposition, chamber purge, wafer transport modules, load locks and lens cooling. But you can think of many other OEM or research applications where a single set point gas flow is needed.
To determine the right static flow controller, you need to collect the following data:
- Desired flow rate (in sccm or slpm)
- Specify gas (ex. Nitrogen)
- Upstream pressure (in psi or bar)
- Downstream pressure (in psi or bar)
- Specify connection (custom optional)
- Specify operating gas temperature (°C or °F)
